从版图出图到制版、清洗与缺陷检查,支持研发多层套刻。
关键尺寸与套刻标记按光刻机台与胶厚定义,提供洁净保管与复用建议。
按材料与图形定义可重复窗口。
进口机台,兼容 8 英寸及以下。
关键尺寸与形貌可闭环。
单步、分段或整线代工。
NDA 与封闭式产线。
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MEMS、化合物与微纳光学多层光刻。
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