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刻蚀

刻蚀

选择性去除未被掩蔽的材料,实现图形转移。覆盖湿法、ICP、DRIE、IBE 与 …

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光刻

光刻

把掩膜版图形复制到晶圆上。接触式 / 步进 / 电子束,最小线宽至 50 nm。

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GaN 紫外探测器

GaN 紫外探测器

GaN 基紫外探测器,面向日盲 / 近紫外波段的芯片代工。

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InGaAs 光电二极管

InGaAs 光电二极管

硅 / InGaAs 光电二极管与 CMOS 探测结构定制,按光谱与噪声窗口。

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InGaAs/InP PIN 探测器

InGaAs/InP PIN 探测器

InP 基 InGaAs PIN,覆盖近红外与通信波段,芯片或封装交付。

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硅基微针芯片

硅基微针芯片

硅微针阵列,针尖可做到 50 μm 级,用于透皮给药与微量采样。

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微透镜阵列

微透镜阵列

石英 / 硅微透镜阵列,Sag、曲率与填充率可按匀光或耦合定制。

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GaN-HEMT 功率/射频

GaN-HEMT 功率/射频

耗尽型 / 增强型 GaN-HEMT,覆盖功率与射频流片。

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边发射激光器 DFB

边发射激光器 DFB

InP / GaAs 边发射激光器,覆盖 FP、DFB、DBR 与 SE-DFB…

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面发射激光器 VCSEL

面发射激光器 VCSEL

GaAs / InP / GaN 基垂直腔面发射激光器,波长与功率按应用定制。

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